光刻胶科幻影视_第5页

半导体国产化提速，光刻胶核心材料替代空间巨大，哪些企业受益？

9月17日，光刻机（胶）概念开盘走强，永新光学（603297.SH）竞价一字涨停，波长光电（301421.SZ）、凯美特气（002549.SZ）开盘后快速拉升至涨停。

电子特气：南大光电的高纯磷烷、砷烷纯度已达99.99999%，打破了国外巨头长达30年的垄断，产品成功导入英特尔、飞利浦等国际一流企业供应链。

具体来看，长进光子科创板IPO审核状态变更为已问询；强一股份完成首轮问询并更新招股书；优迅股份完成第二轮问询回复；恒坤新材科创板IPO在证监会注册生效。

TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。

在科技飞速发展的今天，光刻胶作为显示行业的关键材料，正成为推动产业升级的核心力量。位于经开区新材料产业园的镇江奇美化工有限公司凭借其在光刻胶领域的创新突破，不仅打破了国外技术垄断，还为国内显示行业的发展注入了强大动力。

但很多人可能不知道，光刻机只是“相机”，真正的底片是光刻胶。没有光刻胶，光刻机再强大，也拍不出清晰的芯片电路。过去很长一段时间，这个“隐形英雄”几乎被国外垄断。

近日，在2025集成电路（无锡）创新发展大会上，无锡市政府宣布启动两项半导体材料领域重大突破性项目，标志着中国在EUV光刻胶核心技术领域取得关键进展，有望打破国外长期垄断。

本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。